キシリトール乾燥ライン$nZLG 7.50.75型キシリトール直線振動流動床乾燥機:材料特性に基づき、当社の当分野での経験を結合し、直線振動流動床乾燥機を用いてキシリトールを乾燥する予定である。
キシリトール乾燥ライン
キシリトール直線振動流動床乾燥機:材料特性に基づいて、当社の当分野での経験を結合して、直線振動流動床乾燥機を用いてキシリトールを乾燥する予定である。
ZLG 7.5×0.75型キシリトール直線振動流動床乾燥機材料条件
材料名:キシリトール
処理量:1300 kg/h
初水分:≤2%(設計は2%を取る)
最終水分:≤0.2%(設計は0.2%)
堆積比重:600 Kg/m³
原料温度:20℃(室温で設計)
製品温度:<30℃前後(冷却)
ZLG 7.5×0.75型設計気象条件
大気圧:101.325 KPa
年平均温度:10℃
年平均相対湿度:60%
年間平均空気湿潤量:0.008 kg HガリウムO/kg乾燥
ZLG 7.5×0.75型キシリトール直線振動流動床乾燥機プロセス条件
乾燥方式:直線振動流動床
材料と熱空気の接触方法:貫通流式
熱源と加熱方式:飽和蒸気(0.4 Mpa、151℃)
乾燥給風温度:100-110℃(設計は100℃)
乾燥排風温度:70℃
冷却入風入風温度:15℃
冷却排風温度:35℃
製品出荷方法:ホスト
除塵方式:サイクロン+水膜除塵器
電源:380 V、50 Hz
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