PLGディスク乾燥機:ディスク乾燥機は良好な加熱条件及び材料が長時間接触加熱を許可する場合に適している。自由に流動し、接着しない、極細粉末(100メッシュ以下)及び粒度分布の広い粒状物の処理に適している。
PLGディスク乾燥機
PLG-φ3000×30-Z型乾燥過程:熱媒体を固定された多層中空ディスク内に通し、伝導を通じて金属ディスクの表面に接触した湿潤物質を間接的に加熱し、プラウのようなレーキの葉の機械的攪拌作用の下で、絶えず前に転がり移動している物質内の水分が操作状態にあるときの沸点で蒸発気化し、湿気が排湿口から設備から離れ、底部で合格した乾燥製品を得る。
PLG-φ3000×30-Z型インドール真空型ディスク乾燥機材料及び関連設計パラメータ:
1、物料名称: 吲哚水蒸気とともに揮発し、空気中に置くことができ、あるいは光が赤くなり、樹脂化することができる。主に香料、染料、アミノ酸、農薬の原料として用いられる。インドール自体も香料であり、ジャスミン、ライラック、ハス、ランなどの日用香料の処方によく使われ、使用量は一般的に千分の数である。
2、乾燥品の生産量:1000 kg/h
3、初湿分:~20%(ヘプタン混合物、ヘプタンで計算)
4、最終湿潤部:〜0.5%(湿式基)
5、熱源:~40℃の熱水
6、除塵システム:バッグフィルター
7、設備材質:材料接触部ステンレス304、残りA 3製作
8、設置:室内
9、電源:380 V 50 HZ
10、環境:20℃760 mmHgφ=80%
PLG-φ3000×30-Z型インドール真空型ディスク乾燥機の概要:
ディスク乾燥機は別名多層ディスク乾燥機とも呼ばれ、多層ディスク、レーキ攪拌、縦型連続乾燥装置であり、伝導乾燥を主とする接触乾燥機に属する。この設備は固定床伝導乾燥機や熊手式などの攪拌型乾燥機に加えて改良を重ねて発展したものである。
PLGディスク乾燥機