低温霊芝胞子粉細胞破壁機

済南達微機械有限公司は専門的な研究開発設計、生産、販売が先進的なレベルを持ち、細胞級超微粉砕設備の高い新技術企業。

この設備は動（植）物系薬剤の細胞壁（膜）を破ることにより、生物利用度を高める粉砕作業を漢方薬細胞級微粉砕と呼ぶ。漢方薬材のほとんどの品種は動（植）物から来ており、動（植）物薬材は多種の機能の細胞から構成されており、細胞は細胞壁、細胞膜、細胞質、細胞核などから構成されており、粒径は一般的に10μm-100μmであるが、薬用有効成分は主に細胞質、細胞核内に存在する。細胞が完全に損傷していない状態では、有効成分は細胞膜、細胞壁を通じて放出されてこそ利用できる。完全な細胞膜、細胞壁は有効成分の放出に抵抗を形成し、この抵抗は細胞団内の細胞数の増加に伴って急激に増大する。一方、薬用有効成分は主に細胞内−細胞質と細胞核の間に存在する。細胞壁（膜）の内向抵抗と細胞粒（粗粉）凝集抵抗の二重の影響を受けて、薬効成分は放出しにくく、機体あるいは腸管に吸収され、これが漢方薬の使用量が大きく、明らかでない重要な原因である。この抵抗を除去するためには、細胞内の有効成分を溶媒に直接接触させるために、微粉砕プロセスを採用しなければならない。この作業は細さを目的とするものではなく、細さは巨視的な検出手段としてだけであり、薬剤粉末の真実を表現することはできない。一般的に細胞の壁破れ率が高いほどその細さは細くなる。細胞が壁を破った後、細胞内の有効成分が十分に露出し（従来の細胞壁［膜］による放出ではなく）、薬物の効果をより迅速にする。薬物粒子が細胞レベルで微粉砕された後、電子顕微鏡は少量の完全細胞の存在を観察した（

低温霊芝胞子粉細胞破壁機動作原理

達微機械超微粉砕設備は新型の第4世代振動粉砕であり、材料の異なる特性に基づいて、多くの先進技術を採用し、高速衝突力とせん断力を運用し、材料を磨筒内で媒体の高加速度衝突、切磋琢磨、押出、切断などの作用を受けさせ、短時間で理想的な粉砕効果を達成することができる。材料は粉砕過程で流動化し、各粒子に同じ受力状態を持たせ、粉砕と同時に精密混合（分散）の効果を達成する。加速などのパラメータを調整することで、粉砕研磨を目的とした作業や精密混合（混合）を主な目的とした作業を実現することができる。

この設備は振動粉砕の動作原理を採用して、研磨筒（粉砕室）に研磨媒体を詰めて、例えば硬質材料のボール、棒あるいは柱、研磨筒は加振力の作用の下で図1に示すような時計回り方向の円振動を発生する。研磨筒の強い振動により研磨筒内の媒体は投げ運動を発生させ、この投げ運動により、各媒体は円振動と同方向の旋回を発生させ、同時に、媒体群も3-5周と円振動と逆方向の低周波を発生させる回す動く。すると、媒体がばらばらになったり、衝突したりして、材料に対して図2に示すような順方向衝撃力pと横方向せん断力Lが発生します。材料はP、Lの作用力の衝突、圧縮とせん断作用の下で研磨され、壁を破砕されます。

低温霊芝胞子粉細胞破壁機次の特徴があります

1材料と接触する部位はすべて研磨ステンレス鋼であり、その材質は医薬食品機械汎用材質（ユーザーの要求に応じて他の金属材質に変更することもできる）であり、ヒ素、カドミウム、水銀、鉛、銅などの重金属の混入を避ける。

2、清潔衛生：内外面平滑、一機多用、汚染減少、洗浄作業負担軽減、粉砕過程は全密閉で粉塵の溢れがなく、作業環境を十分に改善し、有効成分は損失しない。

3、複合（透明）遮音カバーを採用し、騒音が大幅に低下した。

4、分解（組み立て）しやすく、洗浄しやすく、材料交換しやすい。水、圧縮空気、アルコール、蒸気などで洗浄、消毒することができます。

5、操作が簡便：容量が適合し、材料の排出を確保し、操作と材料交換が簡便である。

6、メンテナンスが便利：構造がコンパクトで、敷地面積が小さく、メンテナンスが便利である。

7、環境の改善：全密閉作業、粉塵の溢れがなく、有効成分は損失がなく、薬滓の発生がなく、作業環境を改善することができる。

8、効率：粉砕し、残渣がない。高速衝突力とせん断力の双方向作用により、粉砕時間が短縮され、粉砕効率が向上する。

9、広スペクトル適応：いかなる繊維状、高靭性、高硬度または含水率のある材料に対しても適応できる。花粉やその他の胞子に対してジー物などは細胞壁を破る材料を要求し、その壁を破る率は98%より高い。乾式と湿式粉砕に同時に適応する。湿式粉砕時に水、アルコール、その他の液体を加えることができる。

10、温度制御可能：配置によって高温、常温、低温の微粉砕を行うことができ、材料の本来の理化性質と活性成分を維持することができる。研磨筒外壁のジャケットに冷水を通す。冷却水の温度と流量を調節することで粉砕温度を制御することができる。低温粉砕、冷凍システムの低温度は零下10-35℃（低温配置）に達することができる。