梓夢科技がご招待2025年精密研磨研磨材料及び加工技術発展フォーラム

＜梓夢テクノロジー＞

2025年7月24-25日に東莞シェラトンホテルで開催2025年全国精密研磨研磨材料及び加工技術発展フォーラム（第3回）今回のフォーラムでは、産業チェーンの上下流企業、科学研究院所、業界投資機関などを招き、精密研磨研磨研磨の研磨材料製造技術、技術革新、研磨設備の研究開発と産業化応用などの面で特別テーマの交流を行い、中国の精密製造のさらなるステップアップに貢献した。

半導体集積回路、医療機器、航空宇宙などの産業の発展とグレードアップに伴い、コア精密部品の表面粗さと表面型精度に対する要求はすでにサブナノメートルないし原子レベルに達している。精密研磨と研磨は精密部品の信頼性と正確性に影響する核心的な後道過程であり、精密研磨研磨技術は材料の研究開発から技術革新までの全面的な革新を経験している。

大きな粒子研磨剤はウエハ表面にスクラッチを生じ、全体の品質が低下するため、CMP研磨液はできるだけ大きな粒子の数を減らすことが求められており、梓夢科技にとって今回の交流会は展示である検出方法CMP研磨液中の大粒子の好機だ。

会議では、梓夢科技も提供しますLPC大粒子計数システム、CMP平坦化粒度、粒形分析技術、精密に半導体大粒子をカスタマイズするソリューション。

Ø LPC大粒子計数分析器/ZM-02 型

製品紹介：

大粒子計数分析器はフォトレジスタンス法原理設計によって製造されたりゅうしカウンタ、その主な機能はテストCMPスラリー薬液中の顆粒数シリカ、酸化セリウム、酸化アルミニウムなどの薬液。ZM-02 型製品は必要に応じて任意のチャネル粒子の数を表示します。1μm、2μm、5μmなどがあります。

技術的特徴：

ü 検出方法：オフラインまたはオンライン

ü データチャネル：1024

ü カスタムチャネル:64

ü データ濃度上限1x10

ü 検出範囲が広く、0.5μm - 400μm

ü アップグレードとメンテナンスを容易にするモジュラー設計

ü 全自動注入、自動希釈、自動検出、自動洗浄、データ解析

粘度の高いサンプルでは、大粒子計数分析器ZM-0 の2一結合式操作を実現でき、スラリー中の高リスクの大粒子を迅速に識別でき、人工希釈操作を必要とせず、測定誤差を減少し、さらに人工洗浄を必要とせず、検査効率を大幅に向上させる。

Ø CMPペレットアナライザ/M 3000

製品紹介：

粒子分析器は動画像法の原理設計を用いて製造された粒子計数器であり、その主な機能はテストCMPスラリー薬液中の粒子数、粒子形状、異なる形状の粒子数濃度シリカ、酸化セリウム、酸化アルミニウムなどの薬液。

異なる形状の粒子は研磨効果と良率に明らかな違いがあり、粒子形の制御はスラリー生産プロセスには制御が必要な重要なパラメータ。

技術的特徴：

ü 検出方法：オフラインまたはオンライン

ü 全自動希釈、人工希釈不要

ü 用いてCMPスラリー中粒子濃度測定

ü データ濃度上限1x109 ／ml

球形度データ

頓度データ

りゅうけいアナライザM 3000尤これはCMP研磨液生産企業の「球形度」、「鈍度」などのパラメータの管理制御は、スラリーの形状の大きさを直接観察することができ、生産技術を効果的に調整することができ、それによって製品の品質と生産効率を高めることができる。将来の精密研磨研磨分野では、粒子状分析器M3000企業が市場でより有利な地位を占めることが期待されている。

結び

梓夢科技は完全なアフターサービスシステムを構築し、顧客に多方面の支持を提供した。機器の設置調整、操作訓練、それに続くメンテナンス、技術アップグレードにかかわらず、専門的なチームが適時に対応し、処理し、半導体企業に提供する半導体大粒子の正確な定制化ソリューション。