半導体超純水装置

製品概要：

半導体超純水装置前処理、逆浸透システム、エディシステム、研磨混合機システムを用いて水中の導電媒体をほとんど除去し、また水中の解離しないコロイド物質、ガス及び有機物を非常に低いレベルまで除去する水処理設備を採用した。

超純水システム装置の脱塩コア部品は逆浸透膜モジュールであり、超純水システム装置は通常前処理部分、逆浸透ホスト部分、エディシステム及び後処理部分から構成される

EDIの動作原理：

1、樹脂は水の中の溶存イオンを遮断する。

2、遮断されたイオンは電極の作用下で、陰イオンは正極方向に移動し、陽イオンは負極方向に移動する。

3、陽イオンは陽イオン膜を透過し、樹脂/膜の外に排出する。

4、アニオンはアニオン膜を透過し、樹脂/膜の外に排出する。

5、濃縮されたイオンは廃水流路から排出される。

6、脱イオン水は樹脂/フィルム内から流出する。

半導体超純水装置製品特徴：

1、自動化の程度が高く、自動保護機能がある。

2、膜モジュールは複合膜を巻いて形成され、より高い溶質分離率と透過率を示した。

3、エネルギー消費が低く、水利用率が高く、ランニングコストが低い。

4、構造が合理的で、敷地面積が少ない。

5、システムに損傷しやすい部品がなく、大量の修理が必要ない。

主な用途：

1、超純材料と超純試薬の製造と洗浄。

2、電子製品の生産と洗浄。

3、電池製品の生産。

4、半導体製品の生産と洗浄。

5、回路基板の生産と洗浄。

6、その他のハイテク精細製品の生産。