Leica EM ACE 600高真空コーティング装置

Leica EM ACE 600は高真空コーティング装置であり、真空ポンプはダイヤフラムポンプとタービン分子ポンプを採用し、無油真空システムであり、真空度は2×10-6 mbarに達することができる。めっき膜は緻密で均一である。石英膜厚検出器を内蔵し、めっき膜厚を正確に制御することができる。全自動コンピュータ制御、自動真空引き、めっき、ガス抜きなどの全過程、ワンタッチ操作を完了する。タッチパネル制御を採用し、簡単で便利です。計器はイオンスパッタリング金属めっき膜を選択可能で、高分解能電界放射走査電子顕微鏡（FE-SEM）の需要を満たす。炭素ワイヤ蒸発炭素めっき膜、X線エネルギースペクトル及びスペクトル分析用、又はTEM銅メッシュ炭素めっき膜を選択可能である。電子ビーム蒸発方式のめっき膜を選択することもでき、極めて繊細な金属膜と炭素膜を得ることができ、DNA投影などの特殊な用途に用いることができる。

特徴

　　•任意のイオンスパッタリングモード、炭素ワイヤ蒸発炭素めっきモード、炭素棒（熱抵抗）蒸発モード、電子ビーム蒸発モード、ダブルスパッタリングモード、スパッタリング−炭素ワイヤモード、スパッタリング−電子ビームモード、ダブル電子ビームモード、EM VCT 500冷凍輸送システムに互換性があり、オプションのグロー放電（メッシュ表面親水化用）

　　•特許設計パルス式炭素ワイヤ蒸発方式により、炭素膜厚を正確に制御できる

　　•石英膜厚検出器を内蔵し、めっき膜厚を正確に制御し、精度は0.1 nmに達する

　　•全自動プログラム制御、自動真空引き、めっき、ガス抜きなどの過程を完成する

　　•タッチスクリーン制御、簡単便利

　　•ダイヤフラムポンプ+ターボ分子ポンプを採用し、オイルフリー真空システム、真空度≦2×10-6 mbar

　　•スパッタ電流：0-150 mA調整可能

　　•四角形見本倉設計、見本倉寸法：200 mm（幅）×150 mm（深さ）×195 mm（高さ）

　　•試料台内蔵回転、動作距離調節範囲：30 mm-100 mm