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上海市虹口区宝山路778号ヘレン国際ビル5階
硒化锗晶体 GeSe(セレニウムジェルマニウム)
晶体尺寸:~10毫米
电学性能:半导体
晶体结构:斜方晶系
晶胞参数:a = 0.383 nm、b = 0.440 nm、c = 1.078 nm、α = β = γ = 90°
晶体类型:合成
晶体纯度:>99.995%

(100) の平面に沿って並ぶ GeSe 単結晶のX線衍射。XRDはD8 Venture Brukerを使用して室温で実行された。4つのXRDピークは,左から右に,h = 2,4,6,8で (h00) に対応します.

単結晶GeSeの粉末X線衍射(XRD)。X線折射はD8 Venture Brukerを使用して室温で行われた。

エネルギー分散X線分光学(EDX)による単結晶GeSeのストイチオメトリック分析

単結晶GeSeのラマンスペクトル。測定は室温で785nmラマンシステムで行われた。