高純度アルミナ (高純度アルミナ、HPA)電子、光学、セラミックス材料などの分野の重要な基礎材料として、その純度と粒径分布に一定の要求がある。その最終用途に応じて、純度は通常99.99%以上、さらには5N (99.999%)水平方向現在工業に広く応用されている製造方法は以下の通りである。かがくちんでんほうとゾル-ゲル法 (ソル ゲル)そして、この2つのプロセスの中で、濾過、洗浄と乾燥の段階は製品の純度、粒径の制御可能性と形態の完全性を確保する重要なステップである。

一、技術背景：化学沈殿法による高純度アルミナの製造

化学沈殿法では、通常、アルミニウム塩（例えば、AlCl₃、Al(NO₃)₃またはアルミニウムイソプロポキシド）を前駆体とし、アンモニア水または炭酸塩を添加して沈殿反応を行うことにより生成するアル(OH)₃ジェル。その後十分に洗浄して除去したCl⁻、NO₃⁻等ヘテロイオン、最終乾燥と焼成により得られるγ-Al₂O₃またはα-Al₂O₃粉末。この方法は純度が99.99%以上であるが、プロセスフローが長く、操作が複雑であり、設備の密閉性と清浄度に対する要求が高い。

二、三合一設備の技術的優位性と合致点

我が社が自主的に開発製造したろ過洗浄乾燥トリプルユニット (激動Nutscheフィルタードライヤー、ANFD)このような複雑で微細なプロセスのために設計されたものであり、高純度アルミナの製造におけるその応用は次のような顕著な利点があります。

1. 密閉システム、不純物再汚染防止

全濾過、洗浄、乾燥過程は密閉容器の中で連続的に完成し、外部環境の高純度材料に対する汚染リスクを大幅に低減し、電子級、光学級を満たすHPAのクリーンニーズ。

2.精密洗浄、イオン残留除去効率の向上

設備は底部ろ過板と多方向攪拌装置を備え、沈殿物の動的洗浄を実現し、効果的に除去することができるCl⁻、NO₃⁻などの残留ヘテロイオンを含み、製品の抵抗率と透明性を向上させる。

3.真空乾燥機能、材料構造の完全性を保護する

洗浄が完了した後、直接真空乾燥段階に移行することができ、従来技術における材料の移動による損失や凝集現象を回避するとともに、高温での感熱材料の構造破壊のリスクを低減する。

4.自動制御、ロット安定性の向上

トリプルデバイスサポートPLC の制御システムは、温度、攪拌回転数、圧力などの重要パラメータの自動制御と記録を実現でき、ロット間のプロセス一致性を確保でき、実現であるHPA生産自動化、インテリジェント化の重要な設備基盤。

三、技術応用の模式（結合ソル ゲル法）

にソル ゲル法中、アルミニウムアルコキシドと水/アルコール溶媒が反応して透明ゾルを生成し、乾燥ゲル化し、ろ過により溶媒残留と不純物を除去し、最終的に乾燥と焼成してナノスケールの高純度アルミナ粉体を得た。この方法は高い比表面積、特殊な形態のナノアルミナを製造するのに適している。

トリプルデバイスは、プロセスで次の処理に使用されます。

lゲルの低せん断ろ過

lくりかえしせんじょう以有機残留の除去

lしんくうていおんかんそうバターつきでない以保ほごけいたいこうぞう

粒径制御、形態制御と純度制御の協同向上を実現した。

材料産業の発展に伴い、高純度アルミナの市場需要は増加し続けている。伝統的な多段階分体技術は、現代製造の効率、品質、清浄度に対する全面的な要求を満たすことが困難になっている。我が社の濾過洗浄乾燥三重合体設備は、その密閉、安全、連続、自動化の優位性により、すでに多くの家にあるHPA生産企業における応用に成功し、微細材料製造技術のグレードアップの重要な推進力となった。