真空レーキ乾燥機は製薬、食品、化学工業などの分野に広く応用されている乾燥設備である。その技術原理は低温低圧下で、材料表面に気固界面を形成し、材料中の水分の蒸発を促進し、乾燥の目的を実現することである。
真空レーキ乾燥機の設備技術原理:
1、真空乾燥
真空乾燥は千乾燥技術であり、真空熊手式千乾燥機が千乾燥を実現する基礎でもある。真空乾燥は真空環境下の低気圧と低温環境を利用して、材料表面に気固界面を形成し、材料中の水分を低温低圧下で蒸発させる。真空乾燥は低温低圧下で乾燥過程を完成することができ、高温高圧が材料に与える影響を回避することができる。
2、熊手乾燥機
レーキ乾燥機は一般的な乾燥装置であり、乾燥中に材料を機械的にレーキすることで、材料を均一に加熱することができるのが特徴である。レーキ乾燥機の乾燥効果は比較的良く、高すぎる温度による材料への影響を回避することができる。熊手乾燥機のもう1つの特徴は、乾燥中の材料の流動性が比較的良く、材料の詰まり、蓄積などの問題を回避できることである。
3、真空レーキ乾燥機
真空レーキ乾燥機は真空乾燥とレーキ乾燥機の特徴を結合し、低温低圧下で機械的に材料をレーキする乾燥設備である。真空環境下では、水分の蒸発温度が低下するため、より低い温度で、乾燥の効果を実現することができ、材料を保護すると同時に、より良い乾燥効果を達成することができる。
真空レーキ乾燥機では、材料を乾燥室に入れた後、乾燥室の真空度と温度を調節することにより、材料表面に気固界面を形成させる。材料中の水分はエネルギーの影響を受けて蒸発し、蒸発した水分は真空システムによって排出される。乾燥中、機械的に材料を掻き上げることにより、材料が均一に加熱され、乾燥効果を高めるとともに、材料と乾燥器壁との接触を減少させ、材料の変質を回避する。
